HI8410食品行業(yè)二氧化硫滴定分析儀，采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域，二氧化硫的主要應(yīng)用是進(jìn)行防腐。以葡萄酒為例，當(dāng)有氧存在時將Z先與二氧化硫發(fā)生反映，起到抗氧化的作用，進(jìn)而保證酵母菌的正常發(fā)酵，并抑制其他雜菌。

產(chǎn)品型號：HI84100
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2017-09-19
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HI8410食品行業(yè)二氧化硫滴定分析儀，采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域，二氧化硫的主要應(yīng)用是進(jìn)行防腐。以葡萄酒為例，當(dāng)有氧存在時將zui先與二氧化硫發(fā)生反映，起到抗氧化的作用，進(jìn)而保證酵母菌的正常發(fā)酵，并抑制其他雜菌。

* 基于微電腦控制技術(shù)，集滴定分析，磁力攪拌和電測量于一體。
* 性能優(yōu)良操作簡單，可直接顯示測量結(jié)果。
* 人性化設(shè)計，具有穩(wěn)定標(biāo)識和校準(zhǔn)信息等顯示功能。
* 殘留二氧化硫濃度取決于三個因素：總添加量，原初始量，添加的氧化程度。
* 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用。
* 當(dāng)殘留濃度超過2.0ppm時，即被人感知到，因此以此濃度作為上限值。

技術(shù)指標(biāo)：

測量項目		二氧化硫
量程		0 to 400 ppm of SO₂
解析度		1 ppm
精度		讀數(shù)的5%
測量方法		滴定法
測量原理		等電位氧化還原滴定法
取樣量		50 mL
ORP 電		HI 3148B
泵流量		0.5 mL/min
攪拌速率		1500 rpm
適用環(huán)境		0 to 50°C （32 to 122°F）; max 95% RH無冷凝
供電方式		220V/60 Hz; 10VA
尺寸重量		208 x 214 x 163 mm；2200 g

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